面向片上纳米显微术的可见光波长波导背景研究
光学
2021-07-07 v1
摘要
片上超分辨光学显微术是依赖可见光波导激发的新兴领域。本文研究两种常用高折射率波导平台——五氧化二钽（TaO）与氮化硅（SiN）——在 488–640 nm 激发范围内的背景情况。通过成像荧光微珠估计了这些波导的背景强度，并测量了这些波导平台背景的谱依赖关系。对于 640 nm 波长激发，两种材料背景均较弱，但 Si3N4 在较短波长下背景逐渐增强。我们进一步探究了波导背景对直接随机光学重建显微术（dSTORM）中单分子定位精度的效应。结果表明，SiN 在 488 nm 处背景增加会降低定位精度，从而降低重建图像的分辨率。在 640 nm 处两种材料的定位精度非常接近。因此，对于较短波长应用，TaO 更优。通过改进制备来降低 SiN 在较短波长的背景值得追求。
引用
@article{arxiv.2101.10235,
title = {Study of waveguide background at visible wavelengths for on-chip nanoscopy},
author = {David A. Coucheron and Øystien I. Helle and James S. Wilkinson and Ganapathy Senthil Murugan and Carlos Domínguez and Hallvar Angelskår and Balpreet S. Ahluwalia},
journal= {arXiv preprint arXiv:2101.10235},
year = {2021}
}