拓扑光子石墨烯中应变可调的合成规范场

我们提出一种直接而有效的方法，通过应变工程来设计支持高品质因子边缘态的光子拓扑绝缘体。手性应变工程在两个域中创造出相反的合成规范场，从而产生具有相同能级间距但不同拓扑数的朗道能级。两个拓扑域的边界承载鲁棒的时间反演与自旋-动量锁定的边缘态，由于连续应变调制而表现出高品质因子。通过塑造合成规范场，我们获得了显著的场局域化与可调性，应变强烈影响边缘态的局域化程度。值得注意的是，双域设计稳定了应变诱导的拓扑边缘态。应变工程的巨大潜在带宽以及在制备阶段引入机械应力的机会，使得其在光子学中具有很大的可扩展性，可用于诸多潜在应用，如可调微腔、新型激光器与信息处理器件，包括量子 regime。