用于直接喷墨沉积的NiO-YSZ二元纳米胶体的稳定化
应用物理
2019-03-28 v1
摘要
通过在超临界条件（即280 bar和400 C）下连续水热合成获得的二元分散体进行胶体稳定化，制备出含有体积比66/34的纳米NiO和YSZ颗粒的水基墨水。该方法在单步工艺中产出两种相的粒径<10 nm的单晶颗粒，实现高度混合的复合材料。采用两种不同方法配制可用压电打印头打印的墨水，即静电稳定和静电空间稳定路径。使用静电空间分散剂得到的胶体稳定性优于200天，薄膜更均匀，且在将NiO还原为Ni后获得厚度低于500 nm的精细纳米结构多孔金属陶瓷薄膜。在1000 C下颗粒粗化至50-150 nm，伴随约43%的厚度收缩，且氧化锆基底未出现裂纹或剥落。
引用
@article{arxiv.1903.11449,
title = {Stabilization of binary NiO-YSZ nanocolloids for direct inkjet deposition},
author = {Massimo Rosa and Philippe Zielke and Ragnar Kiebach and Victor Costa Bassetto and Andreas Lesch and Vincenzo Esposito},
journal= {arXiv preprint arXiv:1903.11449},
year = {2019}
}