脏化量子哈尔费马铁磁体中的自旋纹理、屏蔽与激发

我们研究含随机静电杂质势的量子哈尔费马铁磁体。通过经典非线性 sigma 模型，并以数值模拟结果为支撑，分析随无序强度 $\Delta$ 和平均洛伦兹级填充因子偏离单位的 $\delta \nu$ 的不同情况下的基态性质。杂质势的屏蔽需要自旋配置的扭曲；在无 Zeeman 耦合情况下，当 $\Delta$ 或 $|\delta \nu|$ 较大时，系统会发生一种无序驱动的、零温相变，从铁磁体转变为自旋玻璃。我们考察了基态响应函数和激发态。