近宏观 Ni$_{80}$Fe$_{20}$ 薄膜矩形中的单畴形状各向异性

形状各向异性提供了一种调节图案化结构中局部偏置场的简单机制。众所周知，对于尺寸 $<1$ $\mu$m 的椭球颗粒，可以实现具有均匀各向异性场的准单畴态。对于较大的图案化铁磁薄膜元件，畴的形成被认为限制了形状各向异性的有效性。在我们的工作中，我们表明，通过控制诱导磁各向异性，非常软的 lithographically patterned Ni$_{80}$Fe$_{20}$ 薄膜可以表现出与单畴模型一致的形状各向异性场，这既适用于低场下的磁滞回线测量，也适用于高场下的铁磁共振测量。我们展示了对于控制尺寸从 10 $\mu$m 到 150 $\mu$m 且平面纵横比大于 10 的薄膜，磁通计形式的各向异性估计优于磁强计形式。