高压下 Skutterudite CoP3 单晶生长
强关联电子
2009-11-10 v1
摘要
考察了一种生长 Skutterudite 化合物单晶的新方法。采用楔形 cubic-anvil 高压装置,在 3.5 GPa 压力下从比例物料熔体中生长了 CoP3 单晶。粉末 X 射线衍射和电子探针微量分析表明,所得原晶体为单相 CoP3。结果表明,CoP3 在高压下为等容熔融合物。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0312059,
title = {Single Crystal Growth of Skutterudite CoP3 under High Pressure},
author = {C. H. Lee and H. Kito and H. Ihara and K. Akita and N. Yanase and C. Sekine and I. Shirotani},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0312059},
year = {2009}
}
备注
6pages,5 figures, J. Crystal Growth (in press)