通过原子层沉积在垂直硅纳米线尖端形成自对准微透镜的工艺
材料科学
2015-05-07 v1
摘要
微透镜是光电子学中的一项关键赋能技术，允许光高效地耦合进出图像传感器和发光二极管等设备。其普遍性推动了新制造技术的发展，因为现有方法在将微透镜缩放至更小尺寸时面临挑战。在此，我们演示了通过快速原子层沉积 (ALD) 工艺在垂直取向的硅纳米线尖端形成微透镜。该工艺的特性使得微透镜以纳米线为中心，并且由于纳米线间距的存在，微透镜的最终尺寸存在自限制效应。我们进行了微透镜聚焦特性的有限差分时域 (finite difference time domain) 电磁模拟，包括展示其增强硅纳米结构中可见光波长吸收的能力。
引用
@article{arxiv.1405.4741,
title = {Self-aligned process for forming microlenses at the tips of vertical silicon nanowires by atomic layer deposition},
author = {Yaping Dan and Kaixiang Chen and Kenneth B. Crozier},
journal= {arXiv preprint arXiv:1405.4741},
year = {2015}
}
备注
11 pages and 4 figures