通过 NaCl 光解离实现石墨烯的可逆解耦
材料科学
2019-04-26 v1
摘要
我们描述了通过先前吸附的 NaCl 覆盖层光解离，在 Ir(111) 上石墨烯下可逆插层 Na 的过程。室温蒸发后，NaCl 吸附于石墨烯顶部形成双层。结合电子衍射与光电子能谱技术，我们证明 NaCl 覆盖层在短时间 X 射线束照射下发生解离。结果氯脱附而钠插层于石墨烯下，诱导其与底层金属的电子解耦。低能电子衍射显示当 Na 插层于石墨烯与铱之间时 moiré 图案消失。X 射线光电子能谱对 Na 2p 核心能级的解析显示，在石墨烯/Ir 界面处发生了从 NaCl 到埋藏金属 Na 的化学变化。恒能角分辨 X 射线光电子能谱图表明，由于来自 Na 的电荷转移，插层-解耦过程导致 n 型掺杂石墨烯。此外，该过程通过对样品轻度退火即可逆转，且不损伤石墨烯。
引用
@article{arxiv.1904.11286,
title = {Reversible Graphene decoupling by NaCl photo-dissociation},
author = {I. Palacio and L. Aballe and M. Foerster and D. G. de Oteyza and M. García-Hernández and J. A. Martín-Gago},
journal= {arXiv preprint arXiv:1904.11286},
year = {2019}
}