利用气相前驱体分子的反冲注入
应用物理
2021-02-11 v1
摘要
离子注入支撑着大量需要对材料的物理、化学、电子、磁学和光学性质进行精确控制的器件与技术。一种称为反冲注入的变体——将前驱体作为薄膜沉积于衬底上，并通过入射高能离子的动量转移实现注入——具有若干引人注目的优势，尤其当使用惰性离子纳米束进行时 [Fröch 等, Nat Commun 11, 5039 (2020)]。然而，该方法的一个主要缺点是注入物种受限于固态薄膜的组成成分。在此，我们利用气相前驱体演示反冲注入，克服了这一限制。具体而言，我们使用 Ar 离子束与含氮前驱体气体 N2、NH3 和 NF3 在金刚石中制备氮-空位（NV）色心。我们的工作将反冲注入的适用性扩展到元素周期表的大部分元素，以及薄膜沉积或去除不切实际的应用中。
引用
@article{arxiv.2102.05153,
title = {Recoil Implantation Using Gas-Phase Precursor Molecules},
author = {Angus Gale and Johannes E. Fröch and Mehran Kianinia and James Bishop and Igor Aharonovich and Milos Toth},
journal= {arXiv preprint arXiv:2102.05153},
year = {2021}
}