NiO 中动态屏蔽库仑相互作用的压力依赖性：有效的 Hubbard、Hund、壳层间与格点间分量
强关联电子
2017-08-02 v1
摘要
在本工作中，我们在约束随机相近似 (cRPA) 框架下，报告了顺磁 NiO 中有效库仑相互作用参数 (Hubbard U) 的压力依赖性。我们考虑了五种不同的低能模型，从将 Ni-d 和 O-p 态均作为关联轨道处理的最昂贵模型 (dp-dp 模型)，到仅包含 eg 态的最小可能双轨道模型 (eg-eg 模型)。我们发现，在所有考虑的模型中，裸相互作用对压缩并不十分敏感。然而，部分屏蔽的相互作用参数随压缩呈现出近乎线性的增长，这是由压缩时屏蔽效应显著减弱所致。这种反直觉的趋势可以通过该系统基本电子结构的特定特征变化来解释。我们进一步计算了最近邻格点间 d-d 相互作用项，该相互作用项也因压缩而表现出显著增强。我们对实验结构和高压缩结构的结果均表明，在 NiO 的实际建模中，部分屏蔽相互作用的频率依赖性不可忽略。我们还发现，计算得到的反铁磁 NiO 的相互作用参数与其顺磁对应物几乎完全相同。
引用
@article{arxiv.1612.07571,
title = {Pressure dependence of dynamically screened Coulomb interactions in NiO: Effective Hubbard, Hund, intershell and intersite components},
author = {S. K. Panda and H. Jiang and S. Biermann},
journal= {arXiv preprint arXiv:1612.07571},
year = {2017}
}