用于X射线成像的多种衬底上CsI(Tl)屏的性能评估
仪器与探测器
2015-03-03 v1
摘要
掺铊碘化铯（CsI(Tl)）屏因其CsI(Tl)层的柱状结构而广泛用于X射线成像器件，但鲜有报告关注衬底在屏系统中的光学作用。本文中，采用熔融石英（SiO2）、镀银膜SiO2、石墨（C）和光纤板（FOP）四种衬底，通过热蒸发制备CsI(Tl)屏。其成像性能通过相对光输出（RLO）、调制传递函数（MTF）、归一化噪声功率谱（NNPS）和噪声等效量子数（NEQ）进行评估。结果表明，尽管石墨板上的CsI(Tl)膜产生的图像光输出最低，但其空间分辨率相对较高且信噪比特性更好。然而，无论是否镀银膜，SiO2板上的膜均获得低MTF但高NNPS曲线。此外，FOP上的闪烁屏具有明亮图像、低NNPS和高NEQ，但MTF最低。通过控制衬底光学特征，CsI(Tl)膜可定制以适应特定应用。
引用
@article{arxiv.1503.00132,
title = {Performance assessment of CsI(Tl) screens on various substrates for X-ray imaging},
author = {Zhaodong Feng and Peng Jiang and Hongkai Zhang and Bozhen Zhao and Xiubo Qin and Cunfeng Wei and Yu Liu and Long Wei},
journal= {arXiv preprint arXiv:1503.00132},
year = {2015}
}
备注
9 pages,5 figures