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氧化铪亚氧化物的渗流电导

介观与纳米尺度物理 2015-01-13 v1 材料科学

摘要

在本研究中,我们通过实验证明,在氧化铪亚氧化物(HfOx_xx<2x<2)中氧空位链和岛的形成导致此类电介质中的渗流电荷输运。基于 \'{E}fros-Shklovskii 渗流理论模型,电流 - 电压特性的实验数据与理论数据之间取得了良好的定量一致性。基于渗流理论提出的模型表明,氧化铪亚氧化物由分布在非化学计量比 HfOx_x 上的 1-2 nm 金属 Hf 纳米团簇混合物组成。研究表明,所报告的方法可以描述基于 HfOx_x 的电阻式存储元件的低阻态电流 - 电压特性。

关键词

引用

@article{arxiv.1412.4478,
  title  = {Percolation conductivity in hafnium sub-oxides},
  author = {D. R. Islamov and V. A. Gritsenko and C. H. Cheng and A. Chin},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1412.4478},
  year   = {2015}
}

备注

3 pages, 2 figures