纯氮掺杂石墨烯上的氧还原反应：第一性原理建模
材料科学
2012-05-04 v1 介观与纳米尺度物理
化学物理
摘要
基于第一性原理密度泛函理论计算，我们探索了在不同氮掺杂量的纯净和氮掺杂石墨烯上氧还原反应的能学。氧还原过程比金属催化的相同反应多一个步骤。计算结果表明，对于轻掺杂石墨烯（约4%的氮），每一步的能垒都低于铂表面的相同过程。与金属表面催化相比，掺杂石墨烯的最大覆盖度较低，且取决于石墨烯的波纹度。还讨论了由氧负载和波纹度引起的能垒变化。
引用
@article{arxiv.1110.6218,
title = {Oxygen reduction reactions on pure and nitrogen-doped graphene: a first-principles modeling},
author = {Danil W. Boukhvalov and Young-Woo Son},
journal= {arXiv preprint arXiv:1110.6218},
year = {2012}
}
备注
11 pages, 2 figures, accepted in Nanoscale as communication