富氢环境中还原氧化石墨烯的计算研究
材料科学
2016-09-28 v1 原子与分子团簇
化学物理
计算物理
摘要
我们采用分子动力学模拟研究了在富氢的化学活性环境中氧化石墨烯（GO）的还原过程。我们考察了在不同温度下氢气的浓度和压力，在此条件下能够以对 C-sp 键的最小损伤剥离氧，从而保持石墨烯片的完整性。通过这些研究，我们发现了对石墨烯质量有益的化学路径，包括环境中氢气促进的水的形成，以及抑制羰基空位对以利于羟基和环氧基的形成。
引用
@article{arxiv.1112.4546,
title = {Computational studies for reduced graphene oxide in hydrogen-rich environment},
author = {Ramin M. Abolfath and Kyeongjae Cho},
journal= {arXiv preprint arXiv:1112.4546},
year = {2016}
}
备注
9 pages and 9 figures. Animations and movies are available at: http://qmsimulatorgojpc.wordpress.com/