铜氧化物中簇扰动理论的一体与二体关联函数

高$T_c$超导铜氧化物的物理受制于强电子关联效应而晦暗不清。克服该问题的一种途径是至少在小簇内寻求精确解并将其扩展至整个晶体。此方法正是簇扰动理论（CPT）的核心。本文中，我们发展用于动态自旋与电荷磁化率的CPT（spin-CPT与charge-CPT），其中关联效应通过精确对角化被显式计入。我们将spin-CPT与charge-CPT应用于由三带Emery模型得到的两带Hubbard有效模型，并计算一体与二体关联函数，即谱函数以及自旋与电荷磁化率。我们在spin-CPT与CPT-RPA（即随机相位近似（RPA）的CPT推广）中研究了自旋磁化率的掺杂依赖关系。两种方法均在四个非公度波矢处产生低能响应，与过掺杂铜氧化物的非弹性中子散射结果定性相符。