自旋力矩驱动磁化动力学中的 Oersted 场与电流密度分布——实际几何构型的有限元建模
其他凝聚态物理
2021-08-24 v1
摘要
本文通过对典型接触几何构型中电流密度分布和 Oersted 场的数值计算，分析了电流对磁性纳米结构的经典影响。对于 Oersted 场的计算，提出了一种混合有限元/边界元方法 (FEM/BEM) 技术，可应用于任意形状的样品。基于 FEM/BEM 分析，我们论证了自旋转移力矩驱动磁化过程的可靠微磁模拟应包含 Oersted 场的精确计算，特别是在柱状接触几何构型的情况下。类似地，有限元模拟表明需要计算电流密度分布的数值，例如在具有凹痕的磁性条带的情况下。此类条带常用于设计基于电流驱动畴壁运动的器件。在凹痕顶点处发现电流密度急剧增加，预计这将强烈影响此类条带中的磁化过程。
引用
@article{arxiv.0804.4010,
title = {Oersted fields and current density profiles in spin-torque driven magnetization dynamics -- Finite element modelling of realistic geometries},
author = {Riccardo Hertel},
journal= {arXiv preprint arXiv:0804.4010},
year = {2021}
}
备注
9 pages, 6 figures