热处理后 In_{x}O 薄膜的微观结构与非声子峰

我们报道了非晶氧化铟薄膜热处理后非声子峰与结构变化之间的关联。在此过程中，给定样品的电阻可能大幅下降，而其非晶结构得以保持。在本研究中，我们聚焦于热处理所导致的变化，采用电子显微镜、X 射线和拉曼光谱进行表征。这些技术被用于具有不同化学计量比因而不同载流子浓度的薄膜。热处理的主要效应是材料致密化，这很可能源于微孔的消除。致密化体系呈现出更好的波函数重叠与更有效的电流连通性。X 射线与电子束衍射实验表明，热处理样品的空间异质性显著减小，而径向分布函数度量仅发生适度变化。这些结果与拉曼光谱中观测到的退火引起的非声子峰特征变化一致。