位错-纳米孔相互作用的攀移机制
材料科学
2013-04-22 v2
摘要
我们采用原子模拟方法，通过分析潜在机制的 energetics，研究了纳米孔处刃型位错的攀移。展示了一种新颖的模拟策略，用于估算纳米孔诱导攀移过程中纳米孔表面能的释放。发现钉扎位错段的曲率在介导这种独特的位错攀移机制中起着关键作用。我们的研究表明，纳米孔诱导攀移过程的动力学与传统的扩散介导攀移有本质区别。
引用
@article{arxiv.1108.0804,
title = {Mechanism of Climb in Dislocation-Nanovoid Interaction},
author = {A. Dutta and M. Bhattacharya and N. Gayathri and G. C. Das and P. Barat},
journal= {arXiv preprint arXiv:1108.0804},
year = {2013}
}
备注
26 pages, 8 figures