氧化硅表面费米能级钉扎的力学应力依赖性
介观与纳米尺度物理
2019-02-05 v3
摘要
结合静态偏转 p 型硅悬臂的微拉曼光谱与微 XPS（X 射线光电子能谱）Mapping，用于研究氧化硅（001）表面费米能级钉扎的力学应力依赖性。施加平行于 110 晶向的单轴压缩和拉伸应力时，该观测结果与具有大表面体积比的应变硅纳米器件（如纳米线和纳米膜）的电子性质相关。发现表面费米能级钉扎在施加应力下为偶函数，这一事实可能与 Pb 硅/氧化物界面缺陷的对称性有关。对于高达 160 MPa 的应力，观察到压缩应力下钉扎能量以 0.16 meV/MPa 增加，而拉伸应力下以 0.11 meV/MPa 增加。利用体价带形变势，可估算压缩（0.09 meV/MPa）和拉伸（0.13 meV/MPa）下表面能带弯曲的减小。
引用
@article{arxiv.1810.11219,
title = {Mechanical stress dependence of the Fermi level pinning on an oxidized silicon surface},
author = {H. Li and L. Martinelli and F. Cadiz and A. Bendounan and S. Arscott and F. Sirotti and A. C. H. Rowe},
journal= {arXiv preprint arXiv:1810.11219},
year = {2019}
}
备注
5 pages, 5 figures plus Supplementary Material