电沉积 Ni50Co50/Cu 多层膜的磁电阻和表面粗糙度研究
材料科学
2016-09-21 v1
摘要
研究了电沉积 Ni50Co50/Cu 多层膜的室温输运性质（零场电阻率 ρ0 和巨磁电阻 GMR）随单层厚度和总多层膜厚度的变化。优化了 Cu 沉积电位以获得预设的层厚度。通过 AFM 研究了表面粗糙度的发展，揭示了粗糙度随总厚度呈指数增长。Cu 层厚度强烈影响粗糙度的演变。正如预期，ρ0 随 Cu 层厚度增加而减小，而对于大的总多层膜厚度，ρ0 强烈增加，这可归因于观察到的沉积物粗糙化。所有 Cu 层厚度大于约 1.5 nm 的多层膜都表现出 GMR 行为，最大 GMR 约为 5%。对于总多层膜厚度大于约 300 nm 的情况，由于 ρ0 的强烈增加（后者由增强的粗糙度引起），GMR 减小。GMR 数据表明，由于层的起伏，出现了电流与平面成角度的散射类型。在分离了铁磁和超顺磁 GMR 贡献后，详细分析了 MR 数据的厚度演变。可以确定，电沉积 Ni-Co/Cu 多层膜不表现出随间隔层厚度变化的振荡 GMR 行为。
引用
@article{arxiv.1609.06280,
title = {Magnetoresistance and surface roughness study of electrodeposited Ni50Co50/Cu multilayers},
author = {B. G. Tóth and L. Péter and J. Dégi and I. Bakonyi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1609.06280},
year = {2016}
}
备注
27 pages, 11 figures