电沉积 Fe-Co/Cu 多层膜的制备、结构及巨磁电阻
材料科学
2016-10-19 v1
摘要
自优化Cu层沉积电位的方法提出以来，尚未对电沉积(ED) Fe-Co/Cu多层膜的巨磁电阻(GMR)进行系统研究。本文给出了Cu层沉积电位电化学优化的结果，发现其取决于镀液中铁的相对浓度。对dCu在0.8 nm至10 nm范围内的电沉积Fe5Co95(1.5 nm)/Cu(dCu)多层膜的X射线衍射研究表明其具有面心立方(fcc)结构。对于大多数多层膜，可识别出微弱的超晶格卫星反射。详细研究了室温磁电阻随各层厚度的变化关系。发现Cu层厚度大于约1.5 nm的多层膜表现出GMR行为，最大GMR约为5%，典型饱和场为1 kOe。GMR幅度随磁性层中Fe含量的增加而减小。在分离出铁磁和超顺磁GMR贡献后，详细建立了MR数据随间隔层厚度的演化关系，且未发现振荡GMR。并与文献中物理沉积和电沉积Fe-Co/Cu多层膜的数据进行了比较。
引用
@article{arxiv.1610.05631,
title = {Preparation, structure and giant magnetoresistance of electrodeposited Fe Co/Cu multilayers},
author = {B. G. Tóth and L. Péter and L. Pogány and Á. Révész and I. Bakonyi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1610.05631},
year = {2016}
}
备注
22 pages, 9 figures