连续微波辐照下单分子磁体 Ni$_4$ 的磁化弛豫
介观与纳米尺度物理
2008-07-22 v2 其他凝聚态物理
摘要
在低振幅连续微波辐照的稳态条件下，研究了 S=4 单分子磁体 Ni 中两个最低自旋态之间的自旋弛豫。通过同时测量磁化强度和吸收的微波功率，确定了在 10 和 27.8 GHz 两个频率下弛豫率随温度变化的函数关系。在 1.5 K 以下观察到强烈的温度依赖性，这与直接的单自旋-声子弛豫过程不一致。数据反而表明，自旋弛豫在低温下由声子瓶颈主导，而在较高温度下通过涉及激发自旋能级的 Orbach 机制发生。将实验结果与使用通用密度矩阵方程对弛豫率的详细计算进行了比较。
引用
@article{arxiv.0804.3444,
title = {Magnetization relaxation in the single molecule magnet Ni$_4$ under continuous microwave irradiation},
author = {G. de Loubens and D. A. Garanin and C. C. Beedle and D. N. Hendrickson and A. D. Kent},
journal= {arXiv preprint arXiv:0804.3444},
year = {2008}
}
备注
6 pages, 4 figures, submitted to Europhys. Lett