弱掺杂哈伯德磁体中的低温铁磁性

在自洽场图解法框架下，我们预测了居里温度 $T_{\rm C}$ 以下弱掺杂窄带哈伯德磁体的磁化率温度依赖关系中的最大值。通过数值计算证明，该最大值出现在小空穴浓度 $n_{h}$ 时。此时，磁化强度 $M$($T$) 的温度依赖关系具有典型的费米型形状，并在温度 $T_{\rm inf}$ 处存在拐点。平均自旋和化学势方程组的近似解给出了肖特基型磁化率，这典型于一个能隙量级为 $n_{h}(1-n_{h})W$ 的二能级系统，其中 W 是带宽。这种行为反映了存在自旋向上和自旋向下的两个子带。它可能在具有窄带和弱氧非化学计量比的氧化物金属纳米颗粒的表面层中被实验观测到。