辐照金属线中的低温退相干

我们展示了植入能量为 $100 keV$ 的 Ag$^{+}$ 离子的准一维 Ag 线中的相位相干时间测量结果。测量在 $100 mK$ 至 $10 K$ 的温度范围内进行；这与近期关于 Kondo 系统中退相干实验中使用的银中铁的 Kondo 温度（即 $T_{K}^{Ag/Fe} \approx 4 K$）进行了对比。我们表明相位相干时间未受植入过程的影响，清楚地证明了离子植入过程本身在低温下\emph{不会导致任何额外的退相干}。