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基于颗粒动力学的 III-V 族纳米线生长极限

应用物理 2021-04-20 v2 化学物理

摘要

由液滴生长半导体纳米线晶体依赖于该液滴在液固界面的稳定性。通过结合原位透射电子显微镜与所涉及表面能的理论分析,我们表明截断界面可增强液滴的稳定性,进而拓展可成功进行纳米线生长的参数范围。除确定纳米线生长极限外,该方法使我们能够实验估算相关表面能,例如 GaAs {112ˉ0}\{11\bar{2}0\} 晶面。

关键词

引用

@article{arxiv.1905.08569,
  title  = {Limits of III-V nanowire growth based on particle dynamics},
  author = {Marcus Tornberg and Carina B. Maliakkal and Daniel Jacobsson and Kimberly A. Dick and Jonas Johansson},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1905.08569},
  year   = {2021}
}