用于X射线显微术的菲涅耳波带片的离子束光刻
光学
2014-04-04 v3
摘要
菲涅耳波带片（FZP）至今是X射线非常成功的聚焦光学元件。现有的制造方法相当复杂，且基于电子束光刻（EBL）。这里，我们展示了离子束光刻（IBL）可以有利地简化其制备。我们制备了一个可在极紫外到硬X射线极限范围内工作的FZP，并在450 eV到1500 eV范围内进行了测试。FZP的梯形轮廓有利地激活了其二级焦点。最外环宽度为100 nm的FZP在一级、二级和三级焦点处分别可分辨小至61 nm、31 nm和21 nm的特征。测得的一级和二级衍射效率达到了理论预测。
引用
@article{arxiv.1205.4502,
title = {Ion beam lithography for Fresnel zone plates in X-ray microscopy},
author = {Kahraman Keskinbora and Corinne Grévent and Michael Bechtel and Markus Weigand and Eberhard Goering and Achim Nadzeyka and Lloyd Peto and Stefan Rehbein and Gerd Schneider and Rolf Follath and Joan Vila-Comamala and Hanfei Yan and Gisela Schütz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1205.4502},
year = {2014}
}