稀磁半导体 Co:TiO$_2$ 中的内禀铁磁性
材料科学
2016-12-08 v1
摘要
本文研究了在不同氧分压和沉积速率下通过脉冲激光沉积生长的 Co:TiO (CTO) 锐钛矿薄膜的磁性。能量色散谱和透射电子显微镜分析表明，高沉积速率导致均匀的微观结构，而极低速率或后退火则导致钴团簇。深度分辨的低能 μ 子自旋旋转实验显示，在低氧分压（约 torr）下以均匀结构生长的薄膜是完全磁性的，表明存在内禀铁磁性。第一性原理计算确定了低氧分压在实现均匀载流子介导铁磁性中的有益作用。这项工作证明 Co:TiO 是一种内禀稀磁半导体。
引用
@article{arxiv.1612.02235,
title = {Intrinsic Ferromagnetism in the Diluted Magnetic Semiconductor Co:TiO$_2$},
author = {H. Saadaoui and X. Luo and Z. Salman and X. Y. Cui and N. N. Bao and P. Bao and R. K. Zheng and L. Tseng and Y. H. Du and T. Prokscha and A. Suter and T. Liu and Y. R. Wang and S. Li and J. Ding and S. P. Ringer and E. Morenzoni and J. B. Yi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1612.02235},
year = {2016}
}
备注
6 pages, 4 figures, Supplemental Material (not included): 17 pages, 9 Figures