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缺陷与 Hf 掺杂 ZrTe$_{3}$ 电荷密度波态的相互作用

材料科学 2025-12-22 v1 强关联电子 超导电性

摘要

我们对电荷密度波 (CDW) 合物 ZrTe3_3 进行温度依赖的扫描隧道显微镜 (STM) 研究。该材料经 Hf 掺杂处理后, 前期的批量研究表明 Hf 掺杂可提升 CDW 相变温度 (TCDW_{CDW})。在本研究中, 我们结合 STM 测量与密度泛函理论 (DFT) 计算, 观察并鉴定出 Zr0.95_{0.95}Hf0.05_{0.05}Te3_3 中的多种缺陷。意外的是, 我们未发现与 Hf 掺杂相关的明确结构或电子特征, 而是确定所观察缺陷的来源与 Te 与 Zr 空位一致。进一步, 我们的温度依赖 STM 测量使我们能够在 TCDW_{CDW} 以下和以上检查 CDW 对两种缺陷的钉扎现象。

关键词

引用

@article{arxiv.2512.17867,
  title  = {Interplay of Defects and the Charge Density Wave State in Hf-Doped ZrTe$_{3}$},
  author = {Ghilles Ainouche and Resmi Sudheer and Susree Mohapatra and Boning Yu and Muhammad Suhayb Malik and Yu Liu and Cedomir Petrovic and Abhilash Ravikumar and Michael C. Boyer},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2512.17867},
  year   = {2025}
}