X射线吸收光谱确定的钒氧化物异质结中的界面重构

H. Wadati; D. G. Hawthorn; J. Geck; T. Z. Regier; R. I. R. Blyth; T. Higuchi; Y. Hotta; Y. Hikita; H. Y. Hwang; G. A. Sawatzky

doi:10.1063/1.3177328

X射线吸收光谱确定的钒氧化物异质结中的界面重构

强关联电子 2009-07-15 v1 材料科学

作者: H. Wadati , D. G. Hawthorn , J. Geck , T. Z. Regier , R. I. R. Blyth , T. Higuchi , Y. Hotta , Y. Hikita , H. Y. Hwang , G. A. Sawatzky

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摘要

我们展示了一项X射线吸收研究，该研究探讨了在LaVO $_3$ (LVO)夹于LaAlO $_3$ (LAO)之间的多层结构中，V氧化态对LVO和覆盖层LAO厚度的依赖性。我们发现，V价态随LAO层厚度的变化可以定性地解释为电子重构界面与化学重构界面之间的转变。而随LVO层厚度的变化则因较厚LVO层体相中存在大量V $^{4+}$ 而变得复杂。

关键词

X射线吸收光谱钒氧化物异质结界面重构氧化态 LaVO3 LaAlO3 多层结构

引用

@article{arxiv.0906.3519,
  title  = {Interface reconstruction in V-oxide heterostructures determined by x-ray absorption spectroscopy},
  author = {H. Wadati and D. G. Hawthorn and J. Geck and T. Z. Regier and R. I. R. Blyth and T. Higuchi and Y. Hotta and Y. Hikita and H. Y. Hwang and G. A. Sawatzky},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0906.3519},
  year   = {2009}
}

备注

11 pages, 4 figures

X射线吸收光谱确定的钒氧化物异质结中的界面重构

摘要

关键词

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