利用界面组合脉冲激光沉积增强异质结构功能特性
材料科学
2020-12-08 v2
摘要
在本章中，我们将描述组合脉冲激光沉积（CPLD）的一项新发展，其目标是探索界面库。其思路是在几个原子层上连续调制界面的组成，以改变其功能特性。这种独特的界面组合合成之所以可行，得益于脉冲激光沉积（PLD）非常特定的特性。第一是其众所周知的将复杂氧化物化学计量比从靶材转移到薄膜的能力。第二是利用原位 RHEED 表征在原子级别对薄膜生长进行逐层控制。第三涉及烧蚀羽流的方向性，其允许使用可移动遮罩在衬底上进行选择性区域沉积。然而 PLD 也存在一些局限，本文综述了实现可靠 CPLD 所需要考虑的重要 PLD 方面。文中给出了多个关于在磁隧道结中控制界面磁性，以及在铁电可调电容器中调控能带和肖特基势垒高度的实例。
引用
@article{arxiv.2010.10773,
title = {Interface combinatorial pulsed laser deposition to enhance heterostructures functional properties},
author = {Jerome Wolfman and Beatrice Negulescu and Antoine Ruyter and Ndioba Niang and Nazir Jaber},
journal= {arXiv preprint arXiv:2010.10773},
year = {2020}
}
备注
Book Chapter accepted for publication in Laser Ablation, editor D. Yang, IntechOpen London, ISBN 978-1-83968-304-6