ADF-STEM中来自位错的图像衬度机理洞察
材料科学
2020-05-27 v2 仪器与探测器
摘要
在环形暗场扫描透射电子显微镜（ADF STEM）中，多种竞争机制共同贡献于位错的图像衬度。因此，对ADF STEM衬度背后机制的清晰理论理解对于正确诠释位错图像至关重要。本文报道了针对GaN样品中位错的ADF STEM衬度的系统性实验与计算研究。边缘型位错的系统性实验ADF STEM图像揭示了一系列特征衬度特征，其显示依赖于角探测范围及位错在样品中的具体位置。我们提出一种基于电子沟道与Bloch波散射理论、并辅以使用Grillo应变沟道方程的多重切片模拟的理论模型，以阐明此类复杂衬度现象的物理起源。
引用
@article{arxiv.2005.10093,
title = {Insights into image contrast from dislocations in ADF-STEM},
author = {E. Oveisi and M. C. Spadaro and E. Rotunno and V. Grillo and C. Hebert},
journal= {arXiv preprint arXiv:2005.10093},
year = {2020}
}