通过还原过程制备的高取向EuO纳米晶薄膜——近红外光学响应
介观与纳米尺度物理
2018-11-07 v3
摘要
纳米晶织构EuO薄膜是通过在室温真空下从纯Eu2O3块体陶瓷靶经氧损失过程脉冲激光沉积制备的。X射线衍射谱显示出对应于沿(110)方向织构的EuO相的明确衍射峰。XRD峰形分析表明薄膜为纳米晶（平均晶粒尺寸11 nm）且具有压缩残余应变。化学计量比EuO的形成被X射线光电子能谱中来自Eu2+的强信号进一步确认。近红外复折射率通过光谱椭偏仪确定，并显示EuO薄膜具有高透明度（k < 10-3）和2.1的折射率。相对于块体EuO发现了0.25 eV的带隙偏移。这些通过易得且高效的方法沉积的薄膜，为生产具有光学质量、适用于近红外光电子器件的EuO薄膜开辟了新途径。
引用
@article{arxiv.1706.08291,
title = {Highly oriented EuO nanocrystalline films via reduction process - NIR optical response},
author = {Antonio Mariscal and Adrián Quesada and Aitana Tarazaga Martín-Luengo and Miguel Ángel García and Alberta Bonanni and José Fernández and Rosalia Serna},
journal= {arXiv preprint arXiv:1706.08291},
year = {2018}
}