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晶体缺陷的高阶远场边界条件

数值分析 2024-04-02 v2 数值分析 计算物理

摘要

由于缺陷的存在,晶体材料表现出长程弹性场,导致原子模拟中显著的域尺寸效应。对这些长程场进行严格的远场展开,可以识别出以离散多极子项和连续校正项之和形式存在的低秩结构。我们提出了一种新颖的数值格式,利用这种低秩结构通过最小化域尺寸效应来加速材料缺陷模拟。我们的方法迭代地改进边界条件,系统性地遵循远场的渐近展开。我们既提供了该方法的严格误差估计,又进行了一系列经验数值测试,以评估其收敛性和鲁棒性。

关键词

引用

@article{arxiv.2210.05573,
  title  = {Higher-order Far-field Boundary Conditions for Crystalline Defects},
  author = {Julian Braun and Christoph Ortner and Yangshuai Wang and Lei Zhang},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2210.05573},
  year   = {2024}
}