脉冲激光沉积生长的 W-O 涂层中的氦负载
应用物理
2018-12-18 v2 材料科学
摘要
在暴露于氦放电的面向等离子体部件表面，会生长出具有复杂形貌和显著氦含量的 W-O 沉积物。为模拟再沉积/共沉积过程，通过在脉冲激光沉积（PLD）生长的 W 薄膜上注入 He+ 离子制备了 W-O-He 涂层。采用适当的 PLD 实验参数（如 Ar 或 He 背景气氛）可分别诱导沉积多孔或无定形类 W-O 结构。在使用 150 keV、100 keV 和 50 keV 入射 He+ 离子束、总注量为 5 x 10^17 ion/cm^2 进行多次离子注入后，卢瑟福背散射（RBS）在多孔涂层中识别出大量氦。飞行时间弹性反冲探测（TOF-ERDA）测量表明，注入五个月后，多孔涂层中大部分注入的氦已释放，而对于无定形涂层，由于其形貌和纳米结构不同，深层中氦含量仍显著并朝表面平滑下降。所提出的结合 PLD 与离子注入的方法似乎适用于制备用于聚变研究的 W-O-He 参考样品。
引用
@article{arxiv.1812.05714,
title = {Helium load on W-O coatings grown by pulsed laser deposition},
author = {R. Mateus and D. Dellasega and M. Passoni and Z. Siketić and I. Bogdanović Radović and A. Hakola and E. Alves},
journal= {arXiv preprint arXiv:1812.05714},
year = {2018}
}
备注
This work has been carried out within the framework of the EUROfusion Consortium and has received funding from the Euratom research and training programme 2014-2018 under grant agreement n. 633053