Ni 和 Rh 掺杂 BN 片层上储氢的第一性原理研究
统计力学
2009-09-29 v1 材料科学
摘要
利用第一性原理方法研究了氢分子在镍和铑掺杂的六方氮化硼（BN）片层上的吸附。Ni 原子最稳定的位置是氮原子的顶位，而 Rh 原子则倾向于占据六方 BN 片层上的中空位。第一个氢分子在 Rh 原子上以解离方式吸附，而在 Ni 掺杂的 BN 片层上以分子形式吸附。Ni 和 Rh 原子均能化学吸附多达三个氢分子，且金属原子到 BN 片层的距离随着氢分子数量的增加而增加。最后，我们的计算解释了金属原子与氢分子之间键合的性质，这是由于金属 d 轨道与氢 s 轨道的杂化所致。这些计算结果有助于理解掺杂金属与 BN 片层之间相互作用的性质，以及它们与氢分子的相互作用。
引用
@article{arxiv.0812.2070,
title = {First-principles study of hydrogen storage over Ni and Rh doped BN sheets},
author = {Natarajan Sathiyamoorthy Venkataramanan and Mohammad Khazaei and Ryoji Sahara and Hiroshi Mizuseki and Yoshiyuki Kawazoea},
journal= {arXiv preprint arXiv:0812.2070},
year = {2009}
}