高品质因子氮化硅纳米梁腔的制备与表征
量子物理
2016-04-13 v1 其他凝聚态物理
光学
摘要
Si3N4 因其宽带隙和中等大小的折射率（n 2.0），是可见光波段纳米光子学应用的优异材料。我们展示了用于在腔 QED 系统中耦合金刚石纳米晶体和氮-空位中心的 Si3N4 光子晶体纳米梁腔的制备与表征。纳米梁腔的共聚焦微光致发光分析表明，其品质因子高达 Q ~ 55,000，该值受限于我们光谱仪的分辨率。我们还展示了通过光刻缩放所制备器件的尺寸，可在 600-700nm 范围内对腔共振进行粗调。这比此前在这一重要波长范围内的 SiNx 腔提高了一个数量级。
引用
@article{arxiv.1010.6287,
title = {Fabrication and characterization of high quality factor silicon nitride nanobeam cavities},
author = {Mughees Khan and Thomas Babinec and Murray W. McCutcheon and Parag Deotare and Marko Lončar},
journal= {arXiv preprint arXiv:1010.6287},
year = {2016}
}