通过波前传播模拟评估 AS 的 X 射线/EUV 纳米光刻设施
光学
2023-11-29 v1 计算物理
仪器与探测器
摘要
同步辐射光源能够提供所需的空间相干性、稳定性和控制能力，以支撑与当前及未来制造技术相关的极紫外与软 X 射线波段先进光刻技术的发展。在此我们评估澳大利亚同步辐射光源（AS）软 X 射线（SXR）光束线的光学性能，及其在利用 91.8 eV（13.5 nm）至 300 eV（4.13 nm）波段辐射发展干涉光刻方面的适用性。我们构建了 APPLE-II 波荡器光源与 SXR 光束线的综合物理光学模型，以模拟在建议的光刻掩模位置处作为光子能量、准直度和单色仪参数函数的照明特性。该模型结合波荡器谐波光子强度分布的实验测量得到验证。我们表明，波荡器谐波强度比可使用成像探测器精确测量，并可通过光束线光学元件控制。最后，我们评估了完全空间相干照明极限情形下的光刻掩模几何约束与可达成性能。
引用
@article{arxiv.2311.16458,
title = {Evaluation of X-ray/EUV Nanolithography Facility at AS Through Wavefront Propagation Simulations},
author = {Jerome B. M. Knappett and Blair Haydon and Bruce C. C. Cowie and Cameron M. Kewish and Grant A. van Riessen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2311.16458},
year = {2023}
}
备注
21 pages, 7 figures, 3 tables. Preprint: submitted to Journal of Synchrotron Radiation 16/11/23