拓扑绝缘体薄膜中的电子-空穴配对
介观与纳米尺度物理
2013-07-09 v3
摘要
我们考虑位于“强”三维拓扑绝缘体薄膜相对表面上的无质量狄拉克电子和空穴的配对。预测这种配对会产生具有不寻常性质的拓扑激子凝聚。我们在考虑库仑相互作用自洽屏蔽、无序以及由隧穿引起的电子和空穴态杂化的情况下,估算了可实现的配对临界温度。当温度降低时,能隙增加到杂化值以上可以作为该配对的可观测特征。我们讨论了观察电子-空穴配对所需的系统参数。
引用
@article{arxiv.1207.1817,
title = {Electron-hole pairing in topological insulator thin film},
author = {D. K. Efimkin and Yu. E. Lozovik and A. A. Sokolik},
journal= {arXiv preprint arXiv:1207.1817},
year = {2013}
}
备注
9 pages, 9 figures; figures 6, 7, 9 were improved and some references were added