电子束离子源
加速器物理
2014-10-30 v1
摘要
电子束离子源（EBIS）是基于电子碰撞电离原理工作的离子源，能够产生高电荷态离子。所产生的离子既可以作为直流离子束提取，也可以作为具有不同时间结构的离子脉冲提取。与大多数其他已知离子源相比，EBIS 产生的离子束具有极好的束流发射度和较低的能量分散。此外，EBIS 还是来自高电荷态离子的光子（X 射线、紫外、极紫外、可见光）的优良光源。本章概述了 EBIS 的物理原理、工作原理及已知的技术解决方案。通过实例，讨论了 EBIS 的性能及其在基础研究、技术和医学等各个领域的应用。
引用
@article{arxiv.1410.8014,
title = {Electron Beam Ion Sources},
author = {G. Zschornacka and M. Schmidt and A. Thorn},
journal= {arXiv preprint arXiv:1410.8014},
year = {2014}
}
备注
37 pages, contribution to the CAS-CERN Accelerator School: Ion Sources, Senec, Slovakia, 29 May - 8 June 2012, edited by R. Bailey