用于产生高电荷离子束的离子源
加速器物理
2022-05-26 v1
摘要
重离子加速器设施中来自注入器和电荷增殖离子源的强流高电荷离子束（HCIB）需求日益增长，以拓展粒子与核物理研究以及辐射效应测试。随着当前加速器升级与加速器技术进展，并非所有 HCIB 需求都能由现有离子源满足。因此该领域的持续研发（R&D）对于不断改进其性能并匹配加速器界前所未有的、日益更高的 HCIB 需求至关重要。本白皮书讨论了 HCIB 离子源的当前产生能力，以及未来高电荷离子（HCI）源的潜力。它讨论了此类源的优势与不足，以及提升其性能以满足当前与未来重离子加速器设施需求的推进路径。本文档旨在作为指导未来加速器概念设计的基础。
引用
@article{arxiv.2205.12873,
title = {Ion Sources for Production of Highly Charged Ion Beams},
author = {Alain Lapierre and Janilee Benitez and Masahiro Okamura and Damon Todd and Daniel Xie and Yine Sun},
journal= {arXiv preprint arXiv:2205.12873},
year = {2022}
}
备注
White Paper on Ion Sources for Production of Highly Charged Ion Beams, 52 pages