孤立与周期性 3D 光掩模图案的电磁场模拟
光学
2009-05-28 v1 计算物理
摘要
我们利用新开发的有限元方法，对光掩模上的孤立特征进行了严格的 3D 电磁场（EMF）模拟。我们报告了有限元求解器 JCMsuite 的现状，该求解器结合了高阶边单元、自适应细化方法和快速求解算法。我们证明，与大间距周期性计算域的标准模拟方法相比，以相对较低的计算成本即可实现关于孤立特征光散射的严格且准确的结果。
引用
@article{arxiv.0709.3934,
title = {Electromagnetic Field Simulations of Isolated and Periodic 3D Photomask Patterns},
author = {S. Burger and L. Zschiedrich and F. Schmidt and R. Köhle and B. Küchler and C. Nölscher},
journal= {arXiv preprint arXiv:0709.3934},
year = {2009}
}
备注
12 pages, 13 figures, SPIE / BACUS conference Photomask Technology (2007)