Einasto 剖面与暗物质功率谱

我们利用来自无标度功率谱 $P(k)\propto k^n$ 的自相似引力团簇的 N 体模拟，研究了暗物质晕的质量吸积历史 (MAHs) 和密度剖面。我们特别关注密度剖面的曲率，并使用 Einasto 剖面的形状参数 $\alpha$ 对其进行表征。与先前的发现一致，我们的结果表明，尽管它们的 MAHs 存在巨大差异，维里化晕的密度剖面却惊人地相似。尽管如此，偏离自相似性的情况依然明显：对于给定的谱指数，$\alpha$ 随'峰高' $\nu\equiv\delta_{sc}/\sigma(M,z)$ 轻微但系统地增加，无论质量或红移如何。更重要的是，'$\alpha-\nu$'关系依赖于 $n$：初始功率谱越陡，平均 MAHs 和平均密度剖面的曲率越平缓。这些结果与先前关于晕质量剖面形状和 MAHs 之间联系的发现一致，并表明暗物质晕在结构上并非自相似，而是通过并合历史保留了其形成的线性密度场的记忆。