暗物质晕在位力化时的浓度是否具有普适性？
天体物理学
2009-11-13 v1
摘要
近期几项研究表明，暗物质晕质量与密度分布形状之间存在相关性。我们重新分析了Ricotti (2003) 提出此种相关性的模拟。我们使用对晕密度分布的标准分析，并将旧模拟与使用Gadget2进行的新模拟（包括更高分辨率的运行）进行了比较。我们证实了Ricotti的结果：在位力化时，位于位力半径5%-10%处的中心对数斜率alpha与晕质量相关，且晕浓度是一个普适常数。我们的结果并不与大多数已发表的论文相矛盾：当使用分裂幂律拟合密度分布时，由于alpha-浓度简并，这些拟合与具有alpha=1或1.5的普适形状且浓度依赖于质量的晕相一致，这与别处已发表的结果一致。最近，几个研究小组未发现内晕分布收敛于常数幂律的证据。本信中使用分裂幂律参数化的动机是需要将我们的结果与先前结果进行比较，且这在形式上是有效的，因为我们无法分辨拟合函数斜率达到其渐近常数值的区域。使用非参数化技术，我们还表明在z ~ 10处矮星系的密度分布在位力半径5%内的对数斜率浅于0.5。
引用
@article{arxiv.0706.0856,
title = {Is the Concentration of Dark Matter Halos at Virialization Universal ?},
author = {Massimo Ricotti and Andrew Pontzen and Matteo Viel},
journal= {arXiv preprint arXiv:0706.0856},
year = {2009}
}
备注
Accepted for Publication in the Astrophysical Journal Letter