改进的次级落体模型中暗物质晕的密度轮廓
天体物理学
2007-05-23 v1
摘要
在本文中，我们利用Hoffman & Shaham（1985）（以下简称HS）和Hoffman（1988）模型的改进版本，计算了维里化晕的密度轮廓，分别考虑了结构从尺度自由高斯δ场（功率谱P(k)=A k^n）在Ω=1宇宙中层次演化的情况，以及CDM模型的情况。我们假设初始密度对比轮廓围绕局部极大值由Bardeen等人（1986）（以下简称BBKS）引入的平均峰轮廓给出，而不像HS假设的那样仅正比于两点相关函数。我们证明，无论是尺度自由宇宙还是CDM模型，密度轮廓都不是幂律，而是具有从晕内部到外部递增的对数斜率。尺度自由情况（n ≥ -1）和CDM密度轮廓均很好地近似于Navarro等人（1995, 1996, 1997）的轮廓。斜率α=-2处的半径a是晕质量的函数，在尺度自由模型中也是谱指数n的函数。
引用
@article{arxiv.astro-ph/9906379,
title = {Density profiles of dark matter halos in an improved Secondary Infall model},
author = {A. Del Popolo and M. Gambera and E. Recami and E. Spedicato},
journal= {arXiv preprint arXiv:astro-ph/9906379},
year = {2007}
}
备注
17 pages, 6 figures; accepted by A&A