无标度宇宙学中的暗物质晕轮廓

我们利用无标度模型（即 $P(k) \propto k^n$）的宇宙学 $N$-体模拟，探讨了暗物质晕密度轮廓的中心对数斜率 $\alpha$ 对线性物质功率谱 $P(k)$ 的谱指数 $n$ 的依赖性。对于每次模拟，我们识别出处于动力学平衡状态且分辨率良好的晕样本，并分析其质量轮廓。通过使用允许中心对数斜率 $\alpha$ 变化同时在大半径处保持 $r^{-3}$ 渐近形式的“广义”Navarro, Frenk & White 轮廓来参数化质量轮廓，我们获得了每个模型中晕的首选中心斜率。$\alpha$ 与 $n$ 之间存在强相关性，即随着 $n$ 变陡，$\alpha$ 变缓。然而，如果我们用 $r_{-2}$（密度轮廓对数斜率为 -2 处的半径）归一化质量轮廓，我们发现这些差异不再存在。我们得出结论，至少在我们可以分辨的尺度上，没有证据表明会收敛到唯一的中心渐近斜率。