表面形貌对钴超薄膜磁化动力学的影响
材料科学
2023-02-02 v1
摘要
利用磁光克尔效应(MOKE)和四探针电阻测量，原位研究了在表面粗糙度分别为0.5 nm和1.6 nm的SiO2衬底上Co薄膜的生长。原位测量共同表明，两种衬底上均经历Volmer-Weber生长过程，并经由非磁性、超顺磁性和铁磁性相形成阶段。在光滑和粗糙衬底上，岛状结构分别在膜厚0.6 nm和1.5 nm时合并，连续薄膜则分别在膜厚约1.5 nm和3.0 nm时形成。铁磁长程有序即两膜中磁滞回线的出现，在合并阶段刚结束后即被观察到。观测到的矫顽力方位角依赖性证实了两膜中均存在弱单轴磁各向异性，而单轴磁各向异性随衬底粗糙度的差异被解释为薄膜中畴壁钉扎与内应力的联合效应。对于沉积在具有相似均方根粗糙度的波纹图案衬底上的Co膜，其更高单轴磁各向异性(UMA)的起源归因于表面长程偶极杂散场的改变。
引用
@article{arxiv.2302.00278,
title = {Effect of surface morphology on magnetization dynamics of cobalt ultrathin films},
author = {Anup Kumar Bera and Pooja Gupta and Debi Garai and Ajay Gupta Dileep Kumar},
journal= {arXiv preprint arXiv:2302.00278},
year = {2023}
}