六边形图案阵列与缺陷几何对超导薄膜临界电流的影响
超导电性
2017-02-09 v2 介观与纳米尺度物理
材料科学
计算物理
摘要
理解钉扎对超导体中涡旋动力学的影响是研究控制临界电流值的关键因素。涡旋动力学的大规模模拟可为达成此目标提供合理途径。本文中，我们使用含时金兹堡-朗道方程研究具有人工制备、按六边形晶格周期排列的钉扎中心的薄超导薄膜。我们计算了不同几何形状钉扎中心（改变其尺寸、强度和密度）的临界电流密度。此外，我们阐明了图案畸变对磁场依赖临界电流的影响。我们将结果与已有的图案化钼锗薄膜实验测量直接比较，获得了良好的一致性。我们的结果对这些人工钉扎构型中的钉扎机制提供了重要的系统性见解，并为定制具有所需临界电流行为的超导薄膜开辟了路径。
引用
@article{arxiv.1610.09040,
title = {Effect of hexagonal patterned arrays and defect geometry on the critical current of superconducting films},
author = {I. A. Sadovskyy and Y. L. Wang and Z. -L. Xiao and W. -K. Kwok and A. Glatz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1610.09040},
year = {2017}
}
备注
10 pages, 8 figures