具有非均匀缺陷分布的介观超导条带中的边缘效应钉扎
超导电性
2019-02-08 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
纳米尺度超导条带与桥的输运特性由表面与体钉扎的复杂相互作用决定。在极窄桥的极限情形下，临界电流主要由其表面势垒定义，而在极宽条带的相反情形下则由体钉扎性质主导。本文详细研究中间 regime，其中临界电流同时由随机放置的钉扎中心和外磁场下超导条带边缘的 Bean-Livingston 势垒决定。我们使用含时 Ginzburg-Landau 方程描述临界 regime 中的涡旋动力学与电流分布。我们的研究揭示，虽然体缺陷在远离边缘处阻止涡旋运动，但其邻近区域的缺陷促进涡旋穿透，从而抑制临界电流。我们确定了优化临界电流的缺陷空间分布，发现其一般非均匀且不对称：涡旋出口边缘的势垒比涡旋入口边缘对临界电流的影响更强。此外，该优化缺陷分布比均匀无序超导薄膜的临界电流密度高逾 30%。
引用
@article{arxiv.1806.05671,
title = {Edge effect pinning in mesoscopic superconducting strips with non-uniform distribution of defects},
author = {Gregory J. Kimmel and Andreas Glatz and Valerii M. Vinokur and Ivan A. Sadovskyy},
journal= {arXiv preprint arXiv:1806.05671},
year = {2019}
}
备注
11 pages, 8 figures, 1 table