边缘暴露作为 LP-N 和 HLP-N 结构失稳的触发因素
材料科学
2025-03-17 v1 化学物理
摘要
LP-N 和 HLP-N 是极具前景的高能量密度材料。然而，这些在高压下合成的材料在常温常压条件下无法保持稳定。其不稳定性背后的机制仍不清楚。我们基于第一性原理计算和从头算分子动力学模拟的研究表明，在不暴露边缘的情况下，LP-N 和 HLP-N 在常温常压条件下表现出显著的结构、动力学和力学稳定性。HLP-N 的稳定性由互锁机制主导，该机制在边缘暴露后失效，导致内部崩溃。因此，H 饱和吸附对其没有影响。相比之下，LP-N 由于其由边缘引发的解离，从 H 饱和吸附中获得了适度的好处。互锁机制为新材料的设计提供了有价值的见解。
引用
@article{arxiv.2503.11608,
title = {Edge Exposure as the Trigger for Structural Instability in LP-N and HLP-N},
author = {Guo Chen and Xianlong Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:2503.11608},
year = {2025}
}