化学气相沉积石墨烯中的动态自旋注入
介观与纳米尺度物理
2012-11-05 v1
摘要
我们演示了通过坡莫合金 (Py) 层的自旋泵浦向化学气相沉积 (CVD) 生长的石墨烯中进行动态自旋注入。室温下的铁磁共振测量显示，Py/石墨烯界面处的 Gilbert 阻尼显著增强，甚至超过了在 Py/铂界面中观察到的增强效果。在 Co/石墨烯层上也显示了类似的结果。这种 Gilbert 阻尼的增强被理解为是由磁化动力学驱动的界面自旋泵浦的结果。我们的观察结果表明 CVD 石墨烯中的自旋轨道耦合显著增强，这与早期的自旋阀测量结果一致。
引用
@article{arxiv.1211.0492,
title = {Dynamic Spin Injection into Chemical Vapor Deposited Graphene},
author = {A. K. Patra and S. Singh and B. Barin and Y. Lee and J. -H. Ahn and E. del Barco and E. R. Mucciolo and B. Özyilmaz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1211.0492},
year = {2012}
}
备注
13 pages and 3 figures